中微公司尹志堯：有信心開發出更具競爭力的刻蝕、薄膜、外延和電子束檢測設備

每經記者 朱成祥    每經編輯 梁梟    

8月2日，中微公司（688012.SH，股價158.6元，市值985.39億元）迎來成立20周年紀念日，并于臨港產業化基地舉行“20周年盛會華章暨臨港基地落成慶典”。

中微公司董事長、總經理尹志堯

圖片來源：公司供圖

中微公司董事長、總經理尹志堯在致辭中表示：“中微的MOCVD（金屬有機化合物化學氣相沉積）設備已經在全球碳化鎵基LED（發光二極管）設備市場取得優勢地位。最近兩年開發的LPCVD（低壓化學氣相沉積）設備順利進入了市場，一年左右我們得到了大量訂單。”

尹志堯稱：“為了盡快實現趕超，我們正在啟動運行二十多個設備的開發項目。我們有信心，在將來開發出更具競爭力的刻蝕設備、薄膜設備、外延EPI（在襯底上生長出的半導體薄膜）設備和電子束檢測設備。”

據悉，在集成電路產業飛速發展的浪潮中，中微公司以高端半導體設備為核心，堅持技術的創新、產品的差異化和知識產權的保護，不斷開發具有市場競爭力的設備；同時，中微公司將整合產業鏈上下游和相關資源作為另一發力點，積極考慮投資和并購，推動公司更快發展。預計未來五到十年，中微公司將通過自主研發以及攜手行業合作伙伴，覆蓋集成電路關鍵領域50%至60%的設備。